Tablica kalibracyjna obiektywu aparatu do testowania rozdzielczości, karty z folii pozytywnej/ujemnej, dokładność ± 1 µm, nieodblaskowa, idealna do badań naukowych i inspekcji przemysłowych

- Innowacyjna litografia bezpośredniego zapisu – zaawansowany proces litografii przekracza tradycyjne granice precyzji, umożliwiając łatwe wytwarzanie bardzo drobnych mikrostruktur.
- Dokładna tolerancja ± 1 µm: rygorystyczne kontrole procesu utrzymują stabilną tolerancję w zakresie ± 1 µm, zapewniając niezawodne dane do badań naukowych i zastosowań testowych.
- Jednolita konstrukcja oświetlenia: Zawiera nieodblaskowe, kontrastowe materiały z rozproszonym odbiciem, aby zapobiec zlokalizowanym podświetleniom, promując spójne oświetlenie w środowiskach testowych.
- Trwała podstawa aluminiowa: wykonana z wysokiej jakości aluminium dla zwiększonej trwałości i stabilności wymiarowej, dzięki czemu nadaje się do długotrwałego użytkowania w wymagających warunkach przemysłowych.
- Wszechstronne zastosowanie: idealne do wielu dziedzin, w tym kalibracji urządzeń optycznych i oceny nośników obrazowych, nadaje się do laboratoriów badawczych i przemysłowych linii produkcyjnych.